通過對(duì)曬版全過程的分析，可以知道其主要影響因素有以下幾個(gè)方面：原版（菲林）的質(zhì)量、版材再現(xiàn)性、曬版機(jī)及光源。
1、原版（菲林）質(zhì)量
理想的原版質(zhì)量應(yīng)該是網(wǎng)點(diǎn)密度較高（D＞3），點(diǎn)子很實(shí)，并且是光潔的硬性網(wǎng)點(diǎn)。這樣的網(wǎng)點(diǎn)在曬版時(shí)曝光和顯影的寬容度大，容易做到忠實(shí)復(fù)制。網(wǎng)點(diǎn)中心密度與邊緣密度要一致，這樣才能擴(kuò)大曝光時(shí)間的寬容度，使網(wǎng)點(diǎn)完全轉(zhuǎn)移。原版應(yīng)清潔，沒有臟跡，否則把曬版帶臟。
2、版材的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性
版材網(wǎng)點(diǎn)的再現(xiàn)性是指感光版在曬版過程中能夠較大限度地再現(xiàn)原版網(wǎng)點(diǎn)。
再現(xiàn)性的影響主要體現(xiàn)在版材的分辨力和膠膜厚度方面。由于PS版是預(yù)涂感光版，其底基為鋁版，在底基的上面涂布了均勻的感光膠膜層。因此，鋁版底基的處理工藝直接決定著版材質(zhì)量的好壞。而這部分卻往往又是版材用戶們看不見、摸不著的。所以，通過進(jìn)貨渠道來保證版材的質(zhì)量就顯得尤為重要了。如果版材粗糙，質(zhì)量低劣，就會(huì)導(dǎo)致分辨力下降，嚴(yán)重影響印刷質(zhì)量。有些劣質(zhì)版材為了掩蓋鋁版底基上的砂目，將感光膠膜層的厚度增大。這樣做會(huì)導(dǎo)致曝光時(shí)衍射現(xiàn)象增強(qiáng)，從而導(dǎo)致分辨力下降，影響印刷質(zhì)量。
下面是版材的質(zhì)量對(duì)網(wǎng)點(diǎn)復(fù)制的影響及要求：
（l）局部花版、糊版
版基要清潔，厚薄一致，砂目分布均勻，粗細(xì)適中、深淺適度。感光液涂布均勻，無氣泡，無傷痕。一般要求砂目平均深度（Rz）在5～7.5μm，平均粗糙度限（Ra）在0.6μm左右。這都影響了PS版的質(zhì)量，造成局部快速磨損，出現(xiàn)“花版”、糊版，繼而出現(xiàn)掉版和起臟。
（2）PS版表面粗糙度不標(biāo)準(zhǔn)
砂目過粗，使保水量不足，易起臟：而砂目過細(xì)，使微孔中感光膜不易顯干凈，版基易污染，印刷時(shí)易起臟。
（3）局部掉字、掉版
電解粗化后版基灰質(zhì)去除不凈，局部感光層吸附不牢；在涂布感光液前，版面沖洗不凈，留有掛晾時(shí)酸液流淌痕跡，都會(huì)造成局部掉版。
（4）不易上墨
PS版已經(jīng)超過保存期或保存不當(dāng)引起，如保存環(huán)境溫度過高（超過30℃），相對(duì)濕度超過65％，光線過強(qiáng)等：還有感光膠黏度太低，感光涂層太薄等，造成PS版上機(jī)印刷時(shí)不易上墨或根本不上墨。
3、曬版機(jī)及光源
曬版時(shí)要求曬版機(jī)的吸氣真空度要越高越好，以保證原版與印版之間接觸良好，有利于網(wǎng)點(diǎn)轉(zhuǎn)移；若吸氣不好，由于原版和印版之間的間距增大，會(huì)導(dǎo)致衍射現(xiàn)象非常嚴(yán)重。
曬版光源的選擇也非常重要。曬版工藝過程中希望理想光源所發(fā)出應(yīng)該是絕對(duì)的平行光，但實(shí)際生產(chǎn)中使用的光源很難達(dá)到這一要求。通常在實(shí)際生產(chǎn)中，要求光源距離印版之間保持1米左右的距離，從而可使點(diǎn)光源發(fā)出的光盡量接近平行光。
由于曝光是一個(gè)使感光膜受光并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的光化學(xué)過程，該工藝過程中受兩個(gè)因素的影響，即象平面上的照度E和曝光時(shí)間T。感光膜單位面積上獲得的能量，也就是曝光量（H）等于照度E和時(shí)間T的乘積：
H＝E×T
所以，要確定曝光量的大小，既要考慮照度E（光強(qiáng)）又要考慮曝光時(shí)間T。
曬版機(jī)的光源一般都是金屬鹵化燈。這種光源用久了之后會(huì)發(fā)生衰變，導(dǎo)致曝光過程中的照度E變小。因此，實(shí)際生產(chǎn)中在金屬鹵化燈使用了一段時(shí)間之后，還需要根據(jù)光源的實(shí)際情況相應(yīng)增加曝光時(shí)間T，從而確保曬版時(shí)曝光過程中的曝光量保持不變。
正確把握曝光時(shí)間對(duì)曬版工藝而言非常重要：曝光過度會(huì)導(dǎo)致一些小點(diǎn)子被曬丟，使得亮調(diào)層次損失；而曝光不足則又會(huì)造成空白部分的分解不徹底，并且易于沾臟。因此，在曬版曝光過程中需要考慮以下因素：
（1）選擇和PS版感光膠光譜靈敏度相匹配的光源—短波長光源問（UV光源）。這樣一方面可以縮短曬版的時(shí)間，另一方面還可以減少長波帶來的熱效應(yīng)。
（2）盡量減少自然光對(duì)PS版的影響。一般來說，采用白熾燈照明則較為安全，即使曝光完成之后也要盡量少見光，防止圖文部分的再分解。
（3）曝光時(shí)間的掌握應(yīng)與顯影相配合，盡量穩(wěn)定不變，這有利于曬版質(zhì)量。
（4）在顯影之后到印刷之前的這段時(shí)間，如果時(shí)間允許則需盡量將印版放在陰涼處自然晾干，以防止強(qiáng)光或高溫對(duì)感光層造成損害。
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